Dia50,8mm Wafer in zaffiro Finestra in zaffiro Alta trasmittanza ottica DSP/SSP
Perché Sapphire?
Caratteristiche dello zaffiro monocristallino
1. Lo zaffiro ha un'elevata trasmittanza ottica, per cui è ampiamente utilizzato come materiale dielettrico per tubi microelettronici, elemento di conduzione ultrasonica, cavità laser a guida d'onda e altri elementi ottici, come materiali per finestre per dispositivi militari a infrarossi, veicoli spaziali, laser ad alta intensità e comunicazioni ottiche.
2. Lo zaffiro ha elevata rigidità, elevata resistenza, elevata temperatura di lavoro, resistenza all'abrasione e alla corrosione, pertanto il substrato di zaffiro è spesso utilizzato in ambienti difficili, come indicatori di livello dell'acqua delle caldaie (resistenza alle alte temperature), scanner di codici a barre, cuscinetti e altre lavorazioni di precisione (resistenza all'usura), sensori di rilevamento di pozzi e finestre di rilevamento (anticorrosione).
3. Lo zaffiro ha le caratteristiche di isolamento elettrico, trasparenza, buona conduttività termica ed elevata rigidità, quindi può essere utilizzato come materiale di substrato di circuiti integrati, come LED e circuiti microelettronici, circuiti integrati ad altissima velocità.
Specificazione
Diametro | 50,8 mm +/-0,1 mm o +/-0,02 mm |
Spessore | 0,43 mm± 0,1 mm o +/-0,02 mm |
Orientamento | Piano C/Piano A/Piano M/Piano R |
Qualità della superficie (graffio e scavo) | 60/40, 40/20 o migliore |
Precisione della superficie | λ/10, λ/2, λ |
Apertura chiara | >85%, >90% |
Parallelismo | +/-3', +/-30'' |
Smusso | 0,1~0,3 mm×45 gradi |
Rivestimento | AR, BBAR o su richiesta del cliente (UV, VIS, IR) |
NO | Proprietà | Bersaglio | Tolleranza | Osservazioni | |
1 | Diametro | 50,8 mm | ± 0,1 mm | ||
2 | Spessore | 430μm | ±15μm | ||
3 | Orientamento della superficie del piano C | dall'asse C a M0,2° | ± 0,1° | ||
4 | Lunghezza piana primaria | 16 millimetri | ±11 mm | ||
5 | Orientamento piatto primario | Piano A (11-20) | ±0,1° | ||
6 | Rugosità del lato posteriore | 0,8~1,2 µm | |||
7 | Rugosità frontale | <0,3 nm | |||
8 | Bordo del wafer | Tipo R | |||
9 | Variazione dello spessore totale, TTV | ≤ 10μm (LTV ≤ 5μm, 5*5) | |||
10 | SORI | ≤10μm | |||
11 | Arco | -10 μm ≤ BOW ≤ 0 | |||
12 | Marchio laser | N / A | non avere | ||
Pacchetto | 25 wafer in una cassetta | ||||
Capacità di tracciamento | I wafer devono essere tracciabili rispetto al numero di cassetta |
Domande frequenti
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