Stadio con cuscinetto ad aria in SiC ad altissima precisione
Diagramma dettagliato
Panoramica
Con la continua evoluzione del settore dei semiconduttori, le apparecchiature di lavorazione e ispezione richiedono prestazioni sempre più elevate. Grazie alla nostra vasta esperienza nel controllo del movimento e nel posizionamento a livello nanometrico, abbiamo sviluppato uno stage planare a doppio asse di tipo H con cuscinetto ad aria ad altissima precisione.
Progettato con una struttura ceramica in carburo di silicio (SiC) ottimizzata per elementi finiti e tecnologia a cuscinetti d'aria compensati, il tavolino offre precisione, rigidità e risposta dinamica eccezionali. È ideale per:
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Elaborazione e ispezione dei semiconduttori
Micro/nano fabbricazione e metrologia
Taglio e lucidatura a mosca su scala nanometrica
Scansione di precisione ad alta velocità
Caratteristiche principali
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Guida con cuscinetto ad aria in SiCper rigidità e precisione ultra elevate
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Alta dinamica: velocità fino a 1 m/s, accelerazione fino a 4 g, rapido assestamento
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Asse Y del portale a doppia trazionegarantisce elevata capacità di carico e stabilità
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Opzioni dell'encoder: reticolo ottico o interferometro laser
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Precisione di posizionamento: ±0,15 μm;ripetibilità: ±75 nm
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Instradamento dei cavi ottimizzatoper un design pulito e un'affidabilità a lungo termine
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Configurazioni personalizzabiliper esigenze specifiche dell'applicazione
Design ultra-preciso e architettura a trasmissione diretta e senza contatto
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Telaio in ceramica SiC: ~5 volte la rigidità della lega di alluminio e ~5 volte inferiore dilatazione termica, garantendo stabilità ad alta velocità e robustezza termica.
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Cuscinetto ad aria compensato: Il design proprietario migliora la rigidità, la capacità di carico e la stabilità del movimento.
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Prestazioni dinamiche: Supporta una velocità di 1 m/s e un'accelerazione di 4 g, ideale per processi ad alta produttività.
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Integrazione perfetta: Compatibile con sistemi di isolamento dalle vibrazioni, stadi rotanti, moduli di inclinazione e piattaforme di movimentazione wafer.
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Gestione dei cavi: Il raggio di curvatura controllato riduce al minimo lo stress, garantendo una maggiore durata.
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Motore lineare senza nucleo: Movimento fluido senza alcuna forza di attrito.
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Azionamento multimotore: Il posizionamento del motore sul piano di carico migliora la rettilineità, la planarità e la precisione angolare.
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Isolamento termico: I motori sono isolati dalla struttura del palco; raffreddamento ad aria o ad acqua opzionale per cicli di lavoro elevati.
Specifiche
| Modello | 400-400 | 500-500 | 600-600 |
|---|---|---|---|
| Assi | X (scansione) / Y (passo) | X (scansione) / Y (passo) | X (scansione) / Y (passo) |
| Viaggio (mm) | 400 / 400 | 500 / 500 | 600 / 600 |
| Precisione (μm) | ±0,15 | ±0,2 | ±0,2 |
| Ripetibilità (nm) | ±75 | ±100 | ±100 |
| Risoluzione (nm) | 0,3 | 0,3 | 0,3 |
| Velocità massima (m/s) | 1 | 1 | 1 |
| Accelerazione (g) | 4 | 4 | 4 |
| Rettilineità (μm) | ±0,2 | ±0,3 | ±0,4 |
| Stabilità (nm) | ±5 | ±5 | ±5 |
| Carico massimo (kg) | 20 | 20 | 20 |
| Beccheggio/Rollaggio/Imbardata (arco-sec) | ±1 | ±1 | ±1 |
Condizioni di prova:
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Aria fornita: pulita, asciutta; punto di rugiada ≤ 0°F; filtrazione delle particelle ≤ 0,25 μm; o azoto al 99,99%.
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Precisione misurata a 25 mm sopra il centro del palco a 20±1 °C, 40–60% RH.
Applicazioni
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Litografia, ispezione e manipolazione dei wafer dei semiconduttori
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Micro/nanofabbricazione e metrologia di precisione
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Produzione di ottiche di fascia alta e interferometria
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Ricerca scientifica aerospaziale e avanzata
FAQ – Stadio con cuscinetto ad aria in carburo di silicio
1. Che cosa è uno stadio a cuscinetto d'aria?
Un palco con cuscinetto d'aria utilizza una sottile pellicola di aria pressurizzata tra il palco e la guida per forniremovimento senza attrito, senza usura e ultra fluidoA differenza dei cuscinetti meccanici convenzionali, elimina l'effetto stick-slip, garantisce una precisione nanometrica e garantisce un'affidabilità a lungo termine.
2. Perché utilizzare il carburo di silicio (SiC) per la struttura dello stadio?
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Elevata rigidità: ~5 volte quella della lega di alluminio, riducendo al minimo la deformazione durante il movimento dinamico.
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Bassa dilatazione termica: ~5 volte inferiore all'alluminio, mantenendo la precisione anche in caso di variazioni di temperatura.
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Leggero: Densità inferiore rispetto all'acciaio, che consente operazioni ad alta velocità e accelerazione.
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Ottima stabilità: Smorzamento e rigidità superiori per un posizionamento ultra-preciso.
3. Il palco necessita di lubrificazione o manutenzione?
Non è necessaria alcuna lubrificazione tradizionale poiché non c'ènessun contatto meccanicoLa manutenzione consigliata include:
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Fornituraaria compressa pulita e asciutta o azoto
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Ispezione periodica dei filtri e degli essiccatori
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Monitoraggio dei cavi e dei sistemi di raffreddamento
4. Quali sono i requisiti di alimentazione dell'aria?
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Punto di rugiada: ≤ 0 °F (≈ –18 °C)
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Filtrazione delle particelle: ≤ 0,25 μm
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Aria pulita e secca o azoto puro al 99,99%
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Pressione stabile con fluttuazione minima
Chi siamo
XKH è specializzata nello sviluppo, nella produzione e nella vendita di vetri ottici speciali e nuovi materiali cristallini ad alta tecnologia. I nostri prodotti sono destinati all'elettronica ottica, all'elettronica di consumo e al settore militare. Offriamo componenti ottici in zaffiro, coperture per lenti di telefoni cellulari, wafer in ceramica, LT, carburo di silicio (SIC), quarzo e cristalli semiconduttori. Grazie a competenze specialistiche e attrezzature all'avanguardia, eccelliamo nella lavorazione di prodotti non standard, con l'obiettivo di diventare un'azienda leader nel settore dei materiali optoelettronici ad alta tecnologia.










