Substrato
-
wafer di silicio placcato in oro (wafer di Si) 10 nm 50 nm 100 nm 500 nm Au Eccellente conduttività per LED
-
Wafer di silicio rivestiti in oro da 2 pollici, 4 pollici, 6 pollici Spessore dello strato d'oro: 50 nm (± 5 nm) o personalizza Pellicola di rivestimento Au, purezza del 99,999%
-
Wafer AlN-on-NPSS: strato di nitruro di alluminio ad alte prestazioni su substrato di zaffiro non lucidato per applicazioni ad alta temperatura, alta potenza e RF
-
AlN su FSS NPSS/FSS da 2 pollici e 4 pollici Modello AlN per l'area dei semiconduttori
-
Nitruro di gallio (GaN) cresciuto epitassialmente su wafer di zaffiro da 4 pollici e 6 pollici per MEMS
-
Lenti di precisione in silicio monocristallino (Si) – Dimensioni e rivestimenti personalizzati per optoelettronica e imaging a infrarossi
-
Lenti in silicio monocristallino (Si) ad alta purezza personalizzate – Dimensioni e rivestimenti su misura per applicazioni a infrarossi e THz (1,2-7 µm, 8-12 µm)
-
Finestra ottica a gradini in zaffiro personalizzata, cristallo singolo Al2O3, elevata purezza, diametro 45 mm, spessore 10 mm, taglio laser e lucidatura
-
Finestra a gradini in zaffiro ad alte prestazioni, monocristallo Al2O3, rivestimento trasparente, forme e dimensioni personalizzate per applicazioni ottiche di precisione
-
Perno di sollevamento in zaffiro ad alte prestazioni, monocristallo di Al2O3 puro per sistemi di trasferimento wafer – Dimensioni personalizzate, elevata durata per applicazioni di precisione
-
Asta di sollevamento e perno in zaffiro industriale, perno in zaffiro Al2O3 ad alta durezza per movimentazione wafer, sistemi radar e lavorazione di semiconduttori – Diametro da 1,6 mm a 2 mm
-
Perno di sollevamento in zaffiro personalizzato, parti ottiche monocristalline Al2O3 ad alta durezza per il trasferimento di wafer - Diametro 1,6 mm, 1,8 mm, personalizzabili per applicazioni industriali