Ventosa per vassoio in ceramica al carburo di silicio Fornitura di tubi in ceramica al carburo di silicio Sinterizzazione ad alta temperatura Lavorazione personalizzata

Breve descrizione:

I vassoi e i tubi ceramici in carburo di silicio sono materiali ad alte prestazioni indispensabili nella produzione di semiconduttori. I vassoi in ceramica in carburo di silicio sono utilizzati principalmente nella lavorazione di wafer, sia fissi che portanti, per garantire la stabilità di processi ad alta precisione; i tubi ceramici in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nei tubi dei forni ad alta temperatura, nei tubi dei forni a diffusione e in altri scenari per resistere ad ambienti estremi e mantenere un'efficiente gestione termica. Entrambi si basano sul carburo di silicio come materiale di base, che è diventato un componente chiave nel settore dei semiconduttori grazie alle sue eccellenti proprietà fisiche e chimiche.


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Caratteristiche principali:

1. Vassoio in ceramica al carburo di silicio
- Elevata durezza e resistenza all'usura: la durezza è vicina a quella del diamante e può resistere a lungo all'usura meccanica durante la lavorazione dei wafer.
- Elevata conduttività termica e basso coefficiente di dilatazione termica: rapida dissipazione del calore e stabilità dimensionale, evitando deformazioni causate da stress termico.
- Elevata planarità e finitura superficiale: la planarità della superficie arriva fino al livello del micron, garantendo il contatto completo tra il wafer e il disco, riducendo contaminazione e danni.
Stabilità chimica: Elevata resistenza alla corrosione, adatto ai processi di pulizia a umido e di incisione nella produzione di semiconduttori.
2. Tubo ceramico in carburo di silicio
- Resistenza alle alte temperature: può funzionare in ambienti ad alta temperatura, superiori a 1600°C, per lungo tempo, adatto per processi ad alta temperatura dei semiconduttori.
Eccellente resistenza alla corrosione: resistente ad acidi, alcali e a una varietà di solventi chimici, adatto ad ambienti di processo difficili.
- Elevata durezza e resistenza all'usura: resistono all'erosione delle particelle e all'usura meccanica, prolungando la durata utile.
- Elevata conduttività termica e basso coefficiente di dilatazione termica: rapida conduzione del calore e stabilità dimensionale, riducendo la deformazione o la formazione di crepe causate da stress termico.

Parametri del prodotto:

Parametro del vassoio ceramico in carburo di silicio:

(Proprietà del materiale) (Unità) (ssico)
(contenuto di SiC)   (in peso)% >99
(Granulometria media)   micron 4-10
(Densità)   kg/dm3 >3.14
(Porosità apparente)   Vo1% <0,5
(durezza Vickers) Alto potenziale 0,5 Media dei voti 28
*()
Resistenza alla flessione* (tre punti)
20ºC MPa 450
(Resistenza alla compressione) 20ºC MPa 3900
(Modulo elastico) 20ºC Media dei voti 420
(Tenibilità alla frattura)   MPa/m'% 3.5
(Conduttività termica) 20°ºC W/(m*K) 160
(Resistività) 20°ºC Ohm.cm 106-108

(Coefficiente di dilatazione termica)
a(RT**...80ºC) K-1*10-6 4.3

(Temperatura massima di esercizio)
  oºC 1700

 

Parametro del tubo ceramico in carburo di silicio:

Elementi Indice
α-SIC 99% minimo
Porosità apparente 16% massimo
Densità apparente 2,7 g/cm3 min
Resistenza alla flessione ad alta temperatura 100 Mpa min
Coefficiente di dilatazione termica K-1 4.7x10 -6
Coefficiente di conduttività termica (1400ºC) 24 W/mk
Temperatura massima di esercizio 1650ºC

 

Principali applicazioni:

1. Piastra in ceramica al carburo di silicio
- Taglio e lucidatura wafer: funge da piattaforma di appoggio per garantire elevata precisione e stabilità durante il taglio e la lucidatura.
- Processo litografico: il wafer viene fissato nella macchina litografica per garantire un posizionamento ad alta precisione durante l'esposizione.
- Lucidatura chimico-meccanica (CMP): funge da piattaforma di supporto per i tamponi lucidanti, garantendo una distribuzione uniforme della pressione e del calore.
2. Tubo ceramico in carburo di silicio
- Tubo del forno ad alta temperatura: utilizzato per apparecchiature ad alta temperatura quali forni a diffusione e forni a ossidazione per trasportare wafer per trattamenti di processo ad alta temperatura.
- Processo CVD/PVD: come tubo portante nella camera di reazione, resistente alle alte temperature e ai gas corrosivi.
- Accessori per apparecchiature a semiconduttore: per scambiatori di calore, gasdotti, ecc., per migliorare l'efficienza della gestione termica delle apparecchiature.
XKH offre una gamma completa di servizi personalizzati per vassoi in ceramica al carburo di silicio, ventose e tubi in ceramica al carburo di silicio. XKH può personalizzare vassoi e ventose in ceramica al carburo di silicio in base alle esigenze del cliente, in termini di dimensioni, forme e rugosità superficiale, e supportare trattamenti di rivestimento speciali, migliorando la resistenza all'usura e alla corrosione. Per i tubi in ceramica al carburo di silicio, XKH può personalizzare una varietà di diametri interni, diametri esterni, lunghezze e strutture complesse (come tubi sagomati o porosi), e fornire lucidatura, rivestimento antiossidante e altri processi di trattamento superficiale. XKH garantisce ai clienti di sfruttare appieno i vantaggi prestazionali dei prodotti in ceramica al carburo di silicio per soddisfare i severi requisiti di settori manifatturieri di fascia alta come semiconduttori, LED e fotovoltaico.

Diagramma dettagliato

Vassoio e tubo in ceramica SIC 6
Vassoio e tubo in ceramica SIC 7
Vassoio e tubo in ceramica SIC 8
Vassoio e tubo in ceramica SIC 9

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