Prodotti
-
Nitruro di gallio su wafer di silicio da 4 pollici e 6 pollici, orientamento del substrato di silicio su misura, resistività e opzioni di tipo N/tipo P
-
Wafer epitassiali GaN-on-SiC personalizzati (100 mm, 150 mm) – Diverse opzioni di substrato SiC (4H-N, HPSI, 4H/6H-P)
-
Wafer GaN-on-Diamond da 4 pollici 6 pollici Spessore epi totale (micron) 0,6 ~ 2,5 o personalizzato per applicazioni ad alta frequenza
-
Scatola porta wafer FOSB da 25 slot per wafer da 12 pollici Spaziatura di precisione per operazioni automatizzate Materiali ultra puliti
-
Scatola di spedizione con apertura frontale da 12 pollici (300 mm), scatola di trasporto wafer FOSB, capacità 25 pezzi per la movimentazione e la spedizione di wafer, operazioni automatizzate
-
Lenti di precisione in silicio monocristallino (Si) – Dimensioni e rivestimenti personalizzati per optoelettronica e imaging a infrarossi
-
Lenti in silicio monocristallino (Si) ad alta purezza personalizzate: dimensioni e rivestimenti su misura per applicazioni a infrarossi e THz (1,2-7 µm, 8-12 µm)
-
Finestra ottica a gradini in zaffiro personalizzata, cristallo singolo Al2O3, elevata purezza, diametro 45 mm, spessore 10 mm, taglio laser e lucidatura
-
Finestra a gradini in zaffiro ad alte prestazioni, monocristallo Al2O3, rivestimento trasparente, forme e dimensioni personalizzate per applicazioni ottiche di precisione
-
Perno di sollevamento in zaffiro ad alte prestazioni, monocristallo di Al2O3 puro per sistemi di trasferimento wafer – Dimensioni personalizzate, elevata durata per applicazioni di precisione
-
Asta di sollevamento e perno in zaffiro industriale, perno in zaffiro Al2O3 ad alta durezza per movimentazione wafer, sistemi radar e lavorazione di semiconduttori – Diametro da 1,6 mm a 2 mm
-
Perno di sollevamento in zaffiro personalizzato, parti ottiche monocristalline Al2O3 ad alta durezza per trasferimento wafer - Diametro 1,6 mm, 1,8 mm, personalizzabile per applicazioni industriali