Perni di sollevamento in zaffiro premium Perno di sollevamento wafer Al₂O₃ monocristallino

Breve descrizione:

I perni di sollevamento in zaffiro rappresentano un progresso fondamentale nei componenti di lavorazione dei semiconduttori, progettati in zaffiro monocristallino (Al₂O₃) ad altissima purezza per soddisfare i severi requisiti delle moderne tecnologie di microfabbricazione. Questi componenti di precisione sono diventati indispensabili nella produzione di dispositivi a semiconduttore, nei sistemi di crescita epitassiale di LED e nelle applicazioni avanzate di lavorazione dei wafer. L'esclusiva struttura cristallina dello zaffiro sintetico conferisce straordinarie proprietà del materiale che consentono a questi perni di sollevamento di superare le alternative convenzionali negli ambienti operativi più difficili. La loro eccezionale stabilità termica mantiene l'integrità meccanica anche con gradienti di temperatura estremi, mentre la loro intrinseca resistenza chimica garantisce prestazioni costanti anche in presenza di processi chimici aggressivi. Questa combinazione di caratteristiche rende i perni di sollevamento in zaffiro la soluzione preferita per applicazioni critiche di manipolazione dei wafer in cui la precisione nanometrica, il controllo della contaminazione e l'affidabilità del processo sono fondamentali.


Dettagli del prodotto

Tag dei prodotti

Parametri tecnici

Composizione chimica Al2O3
Durezza 9Mohs
Natura ottica Uniassiale
Indice di rifrazione 1.762-1.770
Birifrangenza 0,008-0,010
Dispersione Basso, 0,018
Lustro Vitreo
Pleocroismo Da moderato a forte
Diametro 0,4 mm-30 mm
Tolleranza del diametro 0,004 mm-0,05 mm
lunghezza 2 mm-150 mm
tolleranza di lunghezza 0,03 mm-0,25 mm
Qualità della superficie 40/20
Rotondità della superficie RZ0.05
Forma personalizzata entrambe le estremità piatte, un'estremità redius, entrambe le estremità redius,
perni di sella e forme speciali

Caratteristiche principali

1. Durezza e resistenza all'usura eccezionali: con una durezza Mohs pari a 9, seconda solo a quella del diamante, i perni di sollevamento in zaffiro mostrano caratteristiche di resistenza all'usura che superano di gran lunga le tradizionali alternative in carburo di silicio, ceramica di allumina o leghe metalliche. Questa durezza estrema si traduce in una significativa riduzione della generazione di particolato e dei requisiti di manutenzione, con una durata di vita in genere 3-5 volte superiore rispetto ai materiali convenzionali in applicazioni comparabili.

2. Resistenza superiore alle alte temperature: progettati per resistere a un funzionamento prolungato a temperature superiori a 1000 °C senza degradazione, i perni di sollevamento in zaffiro mantengono stabilità dimensionale e resistenza meccanica anche nei processi termici più impegnativi. Questo li rende particolarmente preziosi per applicazioni critiche come la deposizione chimica da vapore (CVD), la deposizione chimica da vapore metallo-organica (MOCVD) e i sistemi di ricottura ad alta temperatura, dove la discordanza di dilatazione termica può compromettere la resa del processo.

3. Inerzia chimica: la struttura monocristallina dello zaffiro dimostra una notevole resistenza agli attacchi di acido fluoridrico, composti chimici a base di cloro e altri gas di processo aggressivi comunemente presenti nella fabbricazione di semiconduttori. Questa stabilità chimica garantisce prestazioni costanti negli ambienti al plasma e previene la formazione di difetti superficiali che potrebbero portare alla contaminazione del wafer.

4. Bassa contaminazione da particelle: realizzati con cristalli di zaffiro privi di difetti e ad alta purezza (tipicamente >99,99%), questi perni di sollevamento presentano una dispersione minima di particelle anche dopo un uso prolungato. La loro struttura superficiale non porosa e le finiture lucide soddisfano i più severi requisiti delle camere bianche, contribuendo direttamente a migliorare la resa di processo nella produzione avanzata di semiconduttori a nodo.

Lavorazione ad alta precisione: utilizzando tecniche avanzate di molatura al diamante e lavorazione laser, i perni di sollevamento in zaffiro possono essere prodotti con tolleranze sub-micrometriche e finiture superficiali inferiori a 0,05 μm Ra. Geometrie personalizzate, tra cui profili rastremati, configurazioni speciali delle punte e funzionalità di allineamento integrate, possono essere progettate per affrontare specifiche sfide di movimentazione dei wafer nelle apparecchiature di fabbricazione di nuova generazione.

Applicazioni primarie

1. Produzione di semiconduttori: i perni di sollevamento in zaffiro svolgono un ruolo fondamentale nei sistemi avanzati di lavorazione dei wafer, fornendo un supporto affidabile e un posizionamento preciso durante i processi di fotolitografia, incisione, deposizione e ispezione. La loro stabilità termica e chimica li rende particolarmente preziosi negli strumenti di litografia EUV e nelle applicazioni di packaging avanzate, dove la stabilità dimensionale su scala nanometrica è essenziale.

2. Epitassia LED (MOCVD): nei sistemi di crescita epitassiale di semiconduttori composti in nitruro di gallio (GaN) e correlati, i perni di sollevamento in zaffiro forniscono un supporto stabile per i wafer a temperature spesso superiori a 1000 °C. Le loro caratteristiche di espansione termica, abbinate a quelle dei substrati in zaffiro, riducono al minimo la curvatura dei wafer e la formazione di slittamenti durante il processo di crescita epitassiale.

3. Industria fotovoltaica: la produzione di celle solari ad alta efficienza beneficia delle proprietà uniche dello zaffiro nei processi di diffusione ad alta temperatura, sinterizzazione e deposizione di film sottili. La resistenza all'usura dei pin è particolarmente preziosa negli ambienti di produzione di massa, dove la longevità dei componenti ha un impatto diretto sui costi di produzione.

4. Lavorazione di precisione di ottica ed elettronica: oltre alle applicazioni per semiconduttori, i perni di sollevamento in zaffiro trovano impiego nella manipolazione di componenti ottici delicati, dispositivi MEMS e substrati speciali, dove la lavorazione senza contaminazione e la prevenzione dei graffi sono fondamentali. Le loro proprietà di isolamento elettrico li rendono ideali per applicazioni che coinvolgono dispositivi sensibili alle cariche elettrostatiche.

Servizi XKH per perni di sollevamento in zaffiro

XKH fornisce supporto tecnico completo e soluzioni personalizzate per i perni di sollevamento in zaffiro:

1. Servizi di sviluppo personalizzati
· Supporto per la personalizzazione dimensionale, geometrica e del trattamento superficiale
· Raccomandazioni per la selezione dei materiali e l'ottimizzazione dei parametri tecnici
· Progettazione collaborativa del prodotto e verifica della simulazione
2. Capacità di produzione di precisione
· Lavorazioni ad alta precisione con tolleranze controllate entro ±1μm
· Trattamenti speciali tra cui lucidatura a specchio e smussatura dei bordi
· Soluzioni opzionali di modifica della superficie come rivestimenti antiaderenti
3. Sistema di garanzia della qualità
· Rigorosa implementazione dell'ispezione dei materiali in entrata e del controllo dei processi
· Ispezione ottica full-dimensionale e analisi della morfologia superficiale
· Fornitura di report sui test di prestazione del prodotto
4. Servizi della catena di fornitura
· Consegna rapida di prodotti standard
· Gestione dedicata dell'inventario per i clienti chiave
5. Supporto tecnico
· Consulenza su soluzioni applicative
· Risposta rapida post-vendita
Ci impegniamo a fornire prodotti Sapphire Lift Pins di alta qualità e servizi tecnici professionali per soddisfare i severi requisiti dei settori dei semiconduttori, dei LED e di altri settori avanzati.

Perni di sollevamento in zaffiro 1
Perni di sollevamento in zaffiro 4