Substrato SiC di tipo P Wafer SiC Dia2inch nuovo prodotto

Breve descrizione:

Wafer in carburo di silicio (SiC) di tipo P da 2 pollici in politipo 4H o 6H. Presenta proprietà simili al wafer in carburo di silicio (SiC) di tipo N, come resistenza alle alte temperature, elevata conduttività termica, elevata conduttività elettrica, ecc. Il substrato SiC di tipo P è generalmente utilizzato per la produzione di dispositivi di potenza, in particolare per la produzione di transistor bipolari a gate isolato (IGBT). La progettazione degli IGBT prevede spesso giunzioni PN, dove il SiC di tipo P può essere vantaggioso per il controllo del comportamento dei dispositivi.


Caratteristiche

I substrati in carburo di silicio di tipo P sono comunemente utilizzati per realizzare dispositivi di potenza, come i transistor bipolari a gate isolato (IGBT).

IGBT = MOSFET + BJT, che è un interruttore on-off. MOSFET = IGFET (tubo a effetto di campo a semiconduttore a ossido metallico, o transistor a effetto di campo a gate isolato). BJT (transistor a giunzione bipolare, noto anche come transistor). Bipolare significa che nel processo di conduzione sono coinvolti due tipi di portatori di elettroni e lacune, generalmente nella conduzione è coinvolta una giunzione PN.

Il wafer in carburo di silicio (SiC) di tipo p da 2 pollici è in politipo 4H o 6H. Presenta proprietà simili ai wafer in carburo di silicio (SiC) di tipo n, come resistenza alle alte temperature, elevata conduttività termica ed elevata conduttività elettrica. I substrati in SiC di tipo p sono comunemente utilizzati nella fabbricazione di dispositivi di potenza, in particolare per la fabbricazione di transistor bipolari a gate isolato (IGBT). La progettazione degli IGBT prevede tipicamente giunzioni PN, dove il SiC di tipo p è vantaggioso per il controllo del comportamento del dispositivo.

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Diagramma dettagliato

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