Ni Substrato/wafer struttura cubica monocristallina a=3,25 A densità 8,91

Gli orientamenti cristallografici dei substrati di Ni, come <100>, <110> e <111>, svolgono un ruolo cruciale nel determinare le proprietà di superficie e di interazione del materiale. Questi orientamenti forniscono capacità di adattamento del reticolo con diversi materiali a film sottile, supportando una crescita precisa degli strati epitassiali. Inoltre, la resistenza alla corrosione del nichel lo rende durevole in ambienti difficili, il che è vantaggioso per le applicazioni nel settore aerospaziale, marino e della lavorazione chimica. La sua resistenza meccanica garantisce inoltre che i substrati di Ni possano resistere ai rigori della lavorazione fisica e della sperimentazione senza degradarsi, fornendo una base stabile per le tecnologie di deposizione e rivestimento di film sottili. Questa combinazione di proprietà termiche, elettriche e meccaniche rende i substrati di Ni essenziali per la ricerca avanzata nel campo delle nanotecnologie, della scienza delle superfici e dell'elettronica.
Le caratteristiche del nichel possono includere elevata durezza e resistenza, che possono arrivare fino a 48-55 HRC. Buona resistenza alla corrosione, soprattutto agli acidi e agli alcali e altri mezzi chimici hanno un'eccellente resistenza alla corrosione. Buona conduttività elettrica e magnetismo, è uno dei componenti principali della fabbricazione di leghe elettromagnetiche.
Il nichel può essere utilizzato in molti campi, ad esempio come materiale conduttivo per componenti elettronici e come materiale di contatto. Utilizzato per produrre batterie, motori, trasformatori e altre apparecchiature elettromagnetiche. Utilizzato in connettori elettronici, linee di trasmissione e altri sistemi elettrici. Come materiale strutturale per apparecchiature chimiche, contenitori, condutture, ecc. Utilizzato per produrre apparecchiature per reazioni chimiche con elevati requisiti di resistenza alla corrosione. Viene utilizzato nei settori farmaceutico, petrolchimico e in altri settori in cui è strettamente richiesta la resistenza alla corrosione dei materiali.

I substrati di nichel (Ni), grazie alle loro versatili proprietà fisiche, chimiche e cristallografiche, trovano numerose applicazioni in una varietà di campi scientifici e industriali. Di seguito sono riportate alcune delle principali applicazioni dei substrati di Ni: I substrati di nichel sono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili e strati epitassiali. Gli specifici orientamenti cristallografici dei substrati di Ni, come <100>, <110> e <111>, forniscono un abbinamento reticolare con vari materiali, consentendo una crescita precisa e controllata di film sottili. I substrati di Ni sono spesso utilizzati nello sviluppo di dispositivi di memorizzazione magnetica, sensori e dispositivi spintronici, dove il controllo dello spin degli elettroni è fondamentale per migliorare le prestazioni del dispositivo. Il nichel è un eccellente catalizzatore per le reazioni di evoluzione dell'idrogeno (HER) e delle reazioni di evoluzione dell'ossigeno (OER), che sono fondamentali nella scissione dell'acqua e nella tecnologia delle celle a combustibile. I substrati di Ni sono spesso utilizzati come materiali di supporto per i rivestimenti catalitici in queste applicazioni, contribuendo a processi di conversione energetica efficienti.
Possiamo personalizzare varie specifiche, spessori e forme del substrato Ni Single Crystal in base alle esigenze specifiche dei clienti.