Substrato/wafer di Ni struttura cubica monocristallina a=3,25A densità 8,91

Gli orientamenti cristallografici dei substrati di Ni, come <100>, <110> e <111>, svolgono un ruolo cruciale nel determinare le proprietà superficiali e di interazione del materiale. Questi orientamenti consentono la corrispondenza reticolare con diversi materiali a film sottile, supportando la crescita precisa di strati epitassiali. Inoltre, la resistenza alla corrosione del nichel lo rende durevole in ambienti difficili, il che è vantaggioso per applicazioni nei settori aerospaziale, navale e chimico. La sua resistenza meccanica garantisce inoltre che i substrati di Ni possano resistere ai rigori della lavorazione fisica e della sperimentazione senza degradarsi, fornendo una base stabile per le tecnologie di deposizione e rivestimento a film sottile. Questa combinazione di proprietà termiche, elettriche e meccaniche rende i substrati di Ni essenziali per la ricerca avanzata in nanotecnologia, scienza delle superfici ed elettronica.
Le caratteristiche del nichel includono elevata durezza e resistenza, che possono raggiungere valori di durezza pari a 48-55 HRC. Presenta inoltre una buona resistenza alla corrosione, in particolare agli acidi, agli alcali e ad altri agenti chimici. La buona conduttività elettrica e il magnetismo lo rendono uno dei principali componenti per la produzione di leghe elettromagnetiche.
Il nichel può essere utilizzato in molti campi, ad esempio come materiale conduttivo per componenti elettronici e come materiale di contatto. Viene utilizzato per la produzione di batterie, motori, trasformatori e altre apparecchiature elettromagnetiche. Viene utilizzato in connettori elettronici, linee di trasmissione e altri sistemi elettrici. Viene utilizzato come materiale strutturale per apparecchiature chimiche, contenitori, condotte, ecc. Viene utilizzato per la produzione di apparecchiature per reazioni chimiche con elevati requisiti di resistenza alla corrosione. Viene utilizzato in settori farmaceutici, petrolchimici e altri in cui la resistenza alla corrosione dei materiali è strettamente richiesta.

I substrati di nichel (Ni), grazie alle loro versatili proprietà fisiche, chimiche e cristallografiche, trovano numerose applicazioni in diversi settori scientifici e industriali. Di seguito sono riportate alcune delle principali applicazioni dei substrati di Ni: I substrati di nichel sono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili e strati epitassiali. Gli specifici orientamenti cristallografici dei substrati di Ni, come <100>, <110> e <111>, garantiscono un adattamento reticolare con vari materiali, consentendo una crescita precisa e controllata dei film sottili. I substrati di Ni sono spesso utilizzati nello sviluppo di dispositivi di memorizzazione magnetica, sensori e dispositivi spintronici, dove il controllo dello spin elettronico è fondamentale per migliorare le prestazioni del dispositivo. Il nichel è un eccellente catalizzatore per le reazioni di evoluzione dell'idrogeno (HER) e le reazioni di evoluzione dell'ossigeno (OER), fondamentali nella scissione dell'acqua e nella tecnologia delle celle a combustibile. I substrati di Ni sono spesso utilizzati come materiali di supporto per rivestimenti catalitici in queste applicazioni, contribuendo a processi di conversione energetica efficienti.
Possiamo personalizzare varie specifiche, spessori e forme del substrato monocristallino Ni in base alle esigenze specifiche dei clienti.