Macchina lucidatrice a fascio ionico per zaffiro SiC Si

Breve descrizione:

La macchina per la lucidatura e la figurazione a fascio ionico si basa sul principio disputtering ionicoAll'interno di una camera ad alto vuoto, una sorgente di ioni genera plasma, che viene accelerato in un fascio di ioni ad alta energia. Questo fascio bombarda la superficie del componente ottico, rimuovendo materiale su scala atomica per ottenere una correzione e una finitura superficiale ultraprecise.

Inviaci un'e-mail

Caratteristiche

Diagramma dettagliato

Panoramica del prodotto della macchina lucidatrice a fascio ionico

La macchina per la lucidatura e la figurazione a fascio ionico si basa sul principio dello sputtering ionico. All'interno di una camera ad alto vuoto, una sorgente di ioni genera plasma, che viene accelerato in un fascio di ioni ad alta energia. Questo fascio bombarda la superficie del componente ottico, rimuovendo materiale su scala atomica per ottenere una correzione e una finitura superficiale ultraprecise.

Essendo un processo senza contatto, la lucidatura a fascio ionico elimina lo stress meccanico ed evita danni al sottosuolo, rendendolo ideale per la produzione di ottiche ad alta precisione utilizzate in astronomia, aerospaziale, semiconduttori e applicazioni di ricerca avanzata.

Macchina per lucidatura a fascio ionico4

Principio di funzionamento della macchina lucidatrice a fascio ionico

Generazione di ioni
Il gas inerte (ad esempio argon) viene introdotto nella camera a vuoto e ionizzato tramite una scarica elettrica per formare il plasma.

Accelerazione e formazione del fascio
Gli ioni vengono accelerati a diverse centinaia o migliaia di elettronvolt (eV) e modellati in un fascio stabile e focalizzato.

Rimozione del materiale
Il fascio di ioni proietta fisicamente gli atomi dalla superficie senza innescare reazioni chimiche.

Rilevamento degli errori e pianificazione del percorso
Le deviazioni delle figure superficiali vengono misurate tramite interferometria. Vengono applicate funzioni di rimozione per determinare i tempi di sosta e generare percorsi utensile ottimizzati.

Correzione a circuito chiuso
I cicli iterativi di elaborazione e misurazione continuano fino al raggiungimento degli obiettivi di precisione RMS/PV.

Caratteristiche principali della lucidatrice a fascio ionico

Compatibilità universale delle superfici– Elabora superfici piane, sferiche, asferiche e di forma libera

Tasso di rimozione ultra stabile– Consente la correzione delle figure sub-nanometriche

Elaborazione senza danni– Nessun difetto del sottosuolo o modifica strutturale

Prestazioni costanti– Funziona altrettanto bene su materiali di diversa durezza

Correzione delle basse/medie frequenze– Elimina gli errori senza generare artefatti a media/alta frequenza

Bassa richiesta di manutenzione– Funzionamento continuo prolungato con tempi di inattività minimi

Specifiche tecniche principali della macchina lucidatrice a fascio ionico

Articolo	Specifica
Metodo di elaborazione	Sputtering ionico in un ambiente ad alto vuoto
Tipo di elaborazione	Lavorazione e lucidatura superficiale senza contatto
Dimensione massima del pezzo da lavorare	Φ4000 mm
Assi di movimento	3 assi / 5 assi
Stabilità di rimozione	≥95%
Precisione della superficie	PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (tipico RMS < 1 nm; PV < 15 nm)
Capacità di correzione della frequenza	Rimuove gli errori a bassa-media frequenza senza introdurre errori a media/alta frequenza
Funzionamento continuo	3–5 settimane senza manutenzione del vuoto
Costo di manutenzione	Basso

Capacità di elaborazione della macchina lucidatrice a fascio ionico

Tipi di superficie supportati

Semplice: piatto, sferico, prisma

Complesso: asferico simmetrico/asimmetrico, asferico fuori asse, cilindrico

Speciale: Ottica ultrasottile, ottica a lamelle, ottica emisferica, ottica conforme, piastre di fase, superfici libere

Materiali supportati

Vetro ottico: quarzo, microcristallino, K9, ecc.

Materiali infrarossi: silicio, germanio, ecc.

Metalli: alluminio, acciaio inossidabile, lega di titanio, ecc.

Cristalli: YAG, carburo di silicio monocristallino, ecc.

Materiali duri/fragili: carburo di silicio, ecc.

Qualità della superficie / Precisione

PV < 10 nm

Valore efficace ≤ 0,5 nm

Elaborazione di casi di studio di macchine lucidatrici a fascio ionico

Caso 1 – Specchio piano standard

Pezzo da lavorare: quarzo piatto D630 mm

Risultato: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

Caso 2 – Specchio riflettente a raggi X

Pezzo da lavorare: silicone piatto 150 × 30 mm

Risultato: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Pendenza 0,13 µrad

Caso 3 – Specchio fuori asse

Pezzo da lavorare: specchio rettificato fuori asse D326 mm

Risultato: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

FAQ sui vetri al quarzo

FAQ – Lucidatrice a fascio ionico

D1: Che cos'è la lucidatura a fascio ionico?
A1:La lucidatura a fascio ionico è un processo senza contatto che utilizza un fascio focalizzato di ioni (come gli ioni di argon) per rimuovere materiale dalla superficie di un pezzo. Gli ioni vengono accelerati e diretti verso la superficie, causando una rimozione di materiale a livello atomico, con conseguente finitura ultra-liscia. Questo processo elimina lo stress meccanico e i danni al sottosuolo, rendendolo ideale per componenti ottici di precisione.

D2: Quali tipi di superfici può trattare la lucidatrice a fascio ionico?
A2:ILMacchina lucidatrice a fascio ionicopuò elaborare una varietà di superfici, compresi semplici componenti ottici comepiani, sfere e prismi, così come geometrie complesse comeasferiche, asferiche fuori asse, Esuperfici libereÈ particolarmente efficace su materiali come vetro ottico, ottiche a infrarossi, metalli e materiali duri/fragili.

D3: Con quali materiali può lavorare la lucidatrice a fascio ionico?
A3:ILMacchina lucidatrice a fascio ionicopuò lucidare un'ampia gamma di materiali, tra cui:

vetro ottico: Quarzo, microcristallino, K9, ecc.
Materiali a infrarossi: Silicio, germanio, ecc.
Metalli: Alluminio, acciaio inossidabile, lega di titanio, ecc.
Materiali cristallini: YAG, carburo di silicio monocristallino, ecc.
Altri materiali duri/fragili: Carburo di silicio, ecc.

Chi siamo

XKH è specializzata nello sviluppo, nella produzione e nella vendita di vetri ottici speciali e nuovi materiali cristallini ad alta tecnologia. I nostri prodotti sono destinati all'elettronica ottica, all'elettronica di consumo e al settore militare. Offriamo componenti ottici in zaffiro, coperture per lenti di telefoni cellulari, wafer in ceramica, LT, carburo di silicio (SIC), quarzo e cristalli semiconduttori. Grazie a competenze specialistiche e attrezzature all'avanguardia, eccelliamo nella lavorazione di prodotti non standard, con l'obiettivo di diventare un'azienda leader nel settore dei materiali optoelettronici ad alta tecnologia.