Asta di sollevamento e perno in zaffiro industriale, perno in zaffiro Al2O3 ad alta durezza per movimentazione wafer, sistemi radar e lavorazione di semiconduttori – Diametro da 1,6 mm a 2 mm
Astratto
Le aste e i perni di sollevamento in zaffiro industriale sono progettati con precisione e durata per applicazioni ad alta richiesta come la movimentazione di wafer, i sistemi radar e la lavorazione di semiconduttori. Realizzati in Al₂O₂ (zaffiro) monocristallino, questi perni offrono durezza e resistenza termica eccezionali. Disponibili in diametri da 1,6 mm a 2 mm, queste aste e perni di sollevamento sono personalizzabili per soddisfare requisiti industriali specifici. Offrono un'eccellente resistenza ai graffi e una ridotta usura, rendendoli componenti essenziali per sistemi ad alte prestazioni.
Caratteristiche
● Elevata durezza e durata:Con una durezza Mohs pari a 9, questi perni e aste sono resistenti ai graffi, garantendo prestazioni durature nelle applicazioni soggette a elevata usura.
●Dimensioni personalizzabili:Disponibili in diametri da 1,6 mm a 2 mm, con la possibilità di dimensioni personalizzate per soddisfare esigenze applicative specifiche.
●Resistenza termica:L'elevato punto di fusione dello zaffiro (2040 °C) garantisce che questi pin possano resistere ad ambienti ad alte temperature senza degradarsi.
●Eccellenti proprietà ottiche:L'intrinseca trasparenza ottica dello zaffiro rende questi perni di sollevamento adatti all'uso in sistemi ottici e dispositivi di precisione.
●Basso attrito e usura:La superficie liscia dello zaffiro riduce al minimo l'usura sia del perno di sollevamento sia dell'attrezzatura, riducendo i costi di manutenzione.
Applicazioni
●Gestione dei wafer:Utilizzato nella lavorazione dei semiconduttori per la delicata manipolazione dei wafer.
●Sistemi radar:Perni ad alte prestazioni utilizzati nei sistemi radar per la loro durata e precisione.
●Elaborazione dei semiconduttori:Perfetto per la manipolazione di wafer e altri componenti nei processi di produzione di semiconduttori ad alta tecnologia.
●Sistemi industriali:Adatto a una vasta gamma di applicazioni industriali che richiedono elevata durata e precisione.
Parametri del prodotto
| Caratteristica | Specificazione |
| Materiale | Al2O3 monocristallino (zaffiro) |
| Durezza | Mohs 9 |
| Gamma di diametri | Da 1,6 mm a 2 mm |
| Conduttività termica | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Punto di fusione | 2040°C |
| Densità | 3,97 g/cc |
| Applicazioni | Manipolazione di wafer, sistemi radar, lavorazione di semiconduttori |
| Personalizzazione | Disponibile in dimensioni personalizzate |
Domande e risposte (domande frequenti)
D1: Perché lo zaffiro è un buon materiale per i perni di sollevamento utilizzati nella movimentazione dei wafer?
A1: Lo zaffiro è altamenteantigraffioe ha unalto punto di fusione, rendendolo un materiale eccellente per operazioni delicate comemanipolazione dei wafer, dove precisione e durata sono essenziali.
D2: Qual è il vantaggio di personalizzare le dimensioni dei perni di sollevamento in zaffiro?
A2: Le dimensioni personalizzate consentono di adattare questi perni di sollevamento per adattarsi ad applicazioni specifiche, garantendo prestazioni ottimali in una varietà di sistemi, tra cuilavorazione dei semiconduttoriEsistemi radar.
D3: I perni di sollevamento in zaffiro possono essere utilizzati in applicazioni ad alta temperatura?
A3: Sì,zaffiroha unalto punto di fusioneDi2040°C, rendendolo ideale per l'uso in ambienti ad alta temperatura.
Diagramma dettagliato
