GaN su zaffiro da 6 pollici

Breve descrizione:

Wafer epi-layer in nitruro di gallio da 150 mm e 6 pollici su GaN in silicio/zaffiro/SiC

Il wafer con substrato in zaffiro da 6 pollici è un materiale semiconduttore di alta qualità costituito da strati di nitruro di gallio (GaN) cresciuti su un substrato di zaffiro. Il materiale ha eccellenti proprietà di trasporto elettronico ed è ideale per la produzione di dispositivi a semiconduttore ad alta potenza e alta frequenza.


Caratteristiche

Wafer epi-layer in nitruro di gallio da 150 mm e 6 pollici su GaN in silicio/zaffiro/SiC

Il wafer con substrato in zaffiro da 6 pollici è un materiale semiconduttore di alta qualità costituito da strati di nitruro di gallio (GaN) cresciuti su un substrato di zaffiro. Il materiale ha eccellenti proprietà di trasporto elettronico ed è ideale per la produzione di dispositivi a semiconduttore ad alta potenza e alta frequenza.

Metodo di produzione: il processo di produzione prevede la crescita di strati di GaN su un substrato di zaffiro utilizzando tecniche avanzate come la deposizione chimica da vapore metallo-organica (MOCVD) o l'epitassia a fascio molecolare (MBE). Il processo di deposizione viene eseguito in condizioni controllate per garantire un'elevata qualità cristallina e un film uniforme.

Applicazioni GaN-On-Sapphire da 6 pollici: i chip con substrato in zaffiro da 6 pollici sono ampiamente utilizzati nelle comunicazioni a microonde, nei sistemi radar, nella tecnologia wireless e nell'optoelettronica.

Alcune applicazioni comuni includono

1. Amplificatore di potenza RF

2. Industria dell'illuminazione a LED

3. Apparecchiature di comunicazione di rete wireless

4. Dispositivi elettronici in ambienti ad alta temperatura

5. Dispositivi optoelettronici

Specifiche del prodotto

- Dimensioni: il diametro del substrato è di 6 pollici (circa 150 mm).

- Qualità della superficie: la superficie è stata finemente lucidata per garantire un'eccellente qualità dello specchio.

- Spessore: lo spessore dello strato di GaN può essere personalizzato in base a requisiti specifici.

- Imballaggio: il substrato viene accuratamente imballato con materiali antistatici per evitare danni durante il trasporto.

- Bordi di posizionamento: il substrato presenta bordi di posizionamento specifici che facilitano l'allineamento e il funzionamento durante la preparazione del dispositivo.

- Altri parametri: parametri specifici quali sottigliezza, resistività e concentrazione del drogaggio possono essere regolati in base alle esigenze del cliente.

Grazie alle loro eccellenti proprietà materiali e alle molteplici applicazioni, i wafer con substrato in zaffiro da 6 pollici rappresentano una scelta affidabile per lo sviluppo di dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni in vari settori.

Substrato

6" 1mm <111> tipo p Si

6" 1mm <111> tipo p Si

Epi ThickAvg

~5um

~7um

Epi ThickUnif

<2%

<2%

Arco

+/-45 µm

+/-45 µm

Cracking

<5mm

<5mm

BV verticale

>1000V

>1400V

HEMT Al%

25-35%

25-35%

HEMT Spessore Medio

20-30 nm

20-30 nm

Cap in situ SiN

5-60 nm

5-60 nm

Concentrazione 2DEG

~1013cm-2

~1013cm-2

Mobilità

~2000cm2/Contro (<2%)

~2000cm2/Contro (<2%)

Rsh

<330ohm/mq (<2%)

<330ohm/mq (<2%)

Diagramma dettagliato

GaN su zaffiro da 6 pollici
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