Substrato composito LN-on-Si da 6-8 pollici Spessore 0,3-50 μm Si/SiC/Zaffiro dei materiali

Breve descrizione:

Il substrato composito LN-on-Si da 6 pollici a 8 pollici è un materiale ad alte prestazioni che integra film sottili di niobato di litio (LN) monocristallino con substrati di silicio (Si), con spessori che vanno da 0,3 μm a 50 μm. È progettato per la fabbricazione avanzata di dispositivi semiconduttori e optoelettronici. Utilizzando tecniche avanzate di bonding o crescita epitassiale, questo substrato garantisce un'elevata qualità cristallina del film sottile di LN, sfruttando al contempo le grandi dimensioni del wafer (da 6 pollici a 8 pollici) del substrato di silicio per migliorare l'efficienza produttiva e il rapporto costi-benefici.
Rispetto ai materiali LN convenzionali in massa, il substrato composito LN-on-Si da 6 a 8 pollici offre un adattamento termico e una stabilità meccanica superiori, rendendolo adatto alla lavorazione su larga scala a livello di wafer. Inoltre, è possibile selezionare materiali di base alternativi come SiC o zaffiro per soddisfare requisiti applicativi specifici, tra cui dispositivi RF ad alta frequenza, fotonica integrata e sensori MEMS.

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Dettagli del prodotto

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Parametri tecnici

0,3-50μm LN/LT su isolanti
Strato superiore
Diametro	6-8 pollici
Orientamento	X, Z, Y-42 ecc.
Materiali	Tenente tenente, tenente tenente
Spessore	0,3-50 μm
Substrato (personalizzato)
Materiale	Si, SiC, Zaffiro, Spinello, Quarzo

Caratteristiche principali

Il substrato composito LN-on-Si da 6 a 8 pollici si distingue per le sue proprietà materiali uniche e per i parametri regolabili, consentendo un'ampia applicabilità nei settori dei semiconduttori e optoelettronici:

1. Ampia compatibilità con i wafer: le dimensioni dei wafer da 6 a 8 pollici garantiscono una perfetta integrazione con le linee di fabbricazione dei semiconduttori esistenti (ad esempio, processi CMOS), riducendo i costi di produzione e consentendo la produzione di massa.

2. Elevata qualità cristallina: le tecniche epitassiali o di legame ottimizzate garantiscono una bassa densità di difetti nel film sottile LN, rendendolo ideale per modulatori ottici ad alte prestazioni, filtri a onde acustiche di superficie (SAW) e altri dispositivi di precisione.

3. Spessore regolabile (0,3–50 μm): gli strati LN ultrasottili (<1 μm) sono adatti per chip fotonici integrati, mentre gli strati più spessi (10–50 μm) supportano dispositivi RF ad alta potenza o sensori piezoelettrici.

4. Molteplici opzioni di substrato: oltre al Si, è possibile selezionare come materiali di base anche il SiC (elevata conduttività termica) o lo zaffiro (elevato isolamento) per soddisfare le esigenze delle applicazioni ad alta frequenza, alta temperatura o alta potenza.

5. Stabilità termica e meccanica: il substrato di silicio fornisce un robusto supporto meccanico, riducendo al minimo deformazioni o crepe durante la lavorazione e migliorando la resa del dispositivo.

Queste caratteristiche posizionano il substrato composito LN-on-Si da 6 a 8 pollici come materiale preferito per tecnologie all'avanguardia quali comunicazioni 5G, LiDAR e ottica quantistica.

Applicazioni principali

Il substrato composito LN-on-Si da 6 a 8 pollici è ampiamente adottato nei settori high-tech grazie alle sue eccezionali proprietà elettro-ottiche, piezoelettriche e acustiche:

1. Comunicazioni ottiche e fotonica integrata: consentono modulatori elettro-ottici ad alta velocità, guide d'onda e circuiti fotonici integrati (PIC), rispondendo alle esigenze di larghezza di banda dei data center e delle reti in fibra ottica.

Dispositivi RF 2.5G/6G: l'elevato coefficiente piezoelettrico dell'LN lo rende ideale per i filtri a onde acustiche di superficie (SAW) e a onde acustiche di massa (BAW), migliorando l'elaborazione del segnale nelle stazioni base 5G e nei dispositivi mobili.

3. MEMS e sensori: l'effetto piezoelettrico di LN su Si consente la realizzazione di accelerometri ad alta sensibilità, biosensori e trasduttori a ultrasuoni per applicazioni mediche e industriali.

4. Tecnologie quantistiche: in quanto materiali ottici non lineari, i film sottili di LN vengono utilizzati nelle sorgenti luminose quantistiche (ad esempio, coppie di fotoni aggrovigliati) e nei chip quantistici integrati.

5. Laser e ottica non lineare: gli strati LN ultrasottili consentono dispositivi efficienti di generazione della seconda armonica (SHG) e di oscillazione ottica parametrica (OPO) per l'elaborazione laser e l'analisi spettroscopica.

Il substrato composito LN-on-Si standardizzato da 6 a 8 pollici consente la produzione di questi dispositivi in fabbriche di wafer su larga scala, riducendo significativamente i costi di produzione.

Personalizzazione e servizi

Forniamo supporto tecnico completo e servizi di personalizzazione per il substrato composito LN-on-Si da 6 a 8 pollici per soddisfare diverse esigenze di ricerca e sviluppo e produzione:

1. Fabbricazione personalizzata: lo spessore della pellicola LN (0,3–50 μm), l'orientamento dei cristalli (taglio X/taglio Y) e il materiale del substrato (Si/SiC/zaffiro) possono essere personalizzati per ottimizzare le prestazioni del dispositivo.

2. Elaborazione a livello di wafer: fornitura in blocco di wafer da 6 e 8 pollici, inclusi servizi back-end quali taglio a cubetti, lucidatura e rivestimento, per garantire che i substrati siano pronti per l'integrazione nel dispositivo.

3. Consulenza tecnica e test: caratterizzazione dei materiali (ad esempio XRD, AFM), test delle prestazioni elettro-ottiche e supporto alla simulazione dei dispositivi per accelerare la convalida del progetto.

La nostra missione è quella di affermare il substrato composito LN-on-Si da 6 a 8 pollici come soluzione di materiale di base per applicazioni optoelettroniche e di semiconduttori, offrendo un supporto completo dalla ricerca e sviluppo alla produzione di massa.

Conclusione

Il substrato composito LN-on-Si da 6 a 8 pollici, con le sue grandi dimensioni del wafer, la qualità superiore del materiale e la versatilità, sta guidando i progressi nelle comunicazioni ottiche, nella radiofrequenza 5G e nelle tecnologie quantistiche. Che si tratti di produzione su larga scala o di soluzioni personalizzate, forniamo substrati affidabili e servizi complementari per favorire l'innovazione tecnologica.