Wafer di substrato in zaffiro Al2O3 99,999% ad alta purezza da 4 pollici, diametro 101,6 × 0,65 mm con lunghezza piatta primaria

Breve descrizione:

Un wafer di zaffiro da 4 pollici (circa 101,6 mm) è un wafer realizzato in materiale zaffiro con un diametro di 4 pollici.


Caratteristiche

Descrizione

Di seguito vengono presentate le specifiche comuni dei wafer di zaffiro da 4 pollici:

Spessore: lo spessore dei comuni wafer di zaffiro è compreso tra 0,2 mm e 2 mm e lo spessore specifico può essere personalizzato in base alle esigenze del cliente.

Bordo di posizionamento: solitamente sul bordo del wafer è presente una piccola sezione, detta "bordo di posizionamento", che protegge la superficie e il bordo del wafer ed è solitamente amorfa.

Preparazione della superficie: i comuni wafer di zaffiro vengono macinati meccanicamente e lucidati chimicamente per levigarne la superficie.

Proprietà superficiali: la superficie dei wafer di zaffiro presenta solitamente buone proprietà ottiche, come bassa riflettività e basso indice di rifrazione, per migliorare le prestazioni del dispositivo.

Applicazioni

● Substrato di crescita per composti III-V e II-VI

● Elettronica e optoelettronica

● Applicazioni IR

● Circuito integrato in silicio su zaffiro (SOS)

● Circuito integrato a radiofrequenza (RFIC)

Specificazione

Articolo

Wafer in zaffiro da 650 μm da 4 pollici (0001)

Materiali cristallini

Al2O3 monocristallino, elevata purezza, 99,999%

Grado

Prime, pronto per Epi

Orientamento della superficie

Piano C (0001)

Piano C fuori angolo rispetto all'asse M 0,2 +/- 0,1°

Diametro

100,0 millimetri +/- 0,1 millimetri

Spessore

650 μm +/- 25 μm

Orientamento primario piatto

Piano A (11-20) +/- 0,2°

Lunghezza piana primaria

30,0 millimetri +/- 1,0 millimetri

Lucidato su un solo lato

Superficie frontale

Lucidato epi, Ra < 0,2 nm (tramite AFM)

(SSP)

Superficie posteriore

Macinato fine, Ra = da 0,8 μm a 1,2 μm

Doppio lato lucidato

Superficie frontale

Lucidato epi, Ra < 0,2 nm (tramite AFM)

(DSP)

Superficie posteriore

Lucidato epi, Ra < 0,2 nm (tramite AFM)

TTV

< 20 μm

ARCO

< 20 μm

ORDITO

< 20 μm

Pulizia / Imballaggio

Pulizia in camera bianca di classe 100 e confezionamento sottovuoto,

25 pezzi in un'unica confezione a cassetta o in confezione monodose.

Vantiamo una pluriennale esperienza nel settore della lavorazione dello zaffiro, sia nel mercato cinese che in quello internazionale. Per qualsiasi esigenza, non esitate a contattarci.

Diagramma dettagliato

Lunghezza piatta primaria (1)
Lunghezza piatta primaria (2)
Lunghezza piatta primaria (3)

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