Substrato in carburo di silicio da 2 pollici 6H-N su entrambi i lati lucidato diametro 50,8 mm grado di ricerca per produzione
Le seguenti sono le caratteristiche del wafer in carburo di silicio da 2 pollici:
1. Migliore resistenza alle radiazioni: i wafer SIC hanno una maggiore resistenza alle radiazioni, che li rende adatti all'uso in ambienti soggetti a radiazioni. Gli esempi includono veicoli spaziali e impianti nucleari.
2. Maggiore durezza: i wafer SIC sono più duri del silicio, il che aumenta la durata dei wafer durante la lavorazione.
3. Costante dielettrica inferiore: la costante dielettrica dei wafer SIC è inferiore a quella del silicio, il che aiuta a ridurre la capacità parassita nel dispositivo e a migliorare le prestazioni ad alta frequenza.
4. Velocità di deriva degli elettroni saturi più elevata: i wafer SIC hanno una velocità di deriva degli elettroni saturi più elevata rispetto al silicio, offrendo ai dispositivi SIC un vantaggio nelle applicazioni ad alta frequenza.
5. Maggiore densità di potenza: con le caratteristiche di cui sopra, i dispositivi wafer SIC possono raggiungere una maggiore potenza in uscita in dimensioni più ridotte.
Il wafer in carburo di silicio da 2 pollici ha diverse applicazioni.
1. Elettronica di potenza: i wafer SiC sono ampiamente utilizzati nelle apparecchiature elettroniche di potenza come convertitori di potenza, inverter e interruttori ad alta tensione grazie alla loro elevata tensione di rottura e alle caratteristiche di bassa perdita di potenza.
2. Veicoli elettrici: i wafer in carburo di silicio vengono utilizzati nell'elettronica di potenza dei veicoli elettrici per migliorare l'efficienza e ridurre il peso, con conseguente ricarica più rapida e autonomia di guida più lunga.
3. Energia rinnovabile: i wafer in carburo di silicio svolgono un ruolo vitale nelle applicazioni di energia rinnovabile come gli inverter solari e i sistemi di energia eolica, migliorando l'efficienza e l'affidabilità della conversione energetica.
4.Aerospaziale e difesa: i wafer SiC sono essenziali nell'industria aerospaziale e della difesa per applicazioni ad alta temperatura, alta potenza e resistenti alle radiazioni, compresi i sistemi di alimentazione degli aerei e i sistemi radar.
ZMSH fornisce servizi di personalizzazione del prodotto per i nostri wafer in carburo di silicio. I nostri wafer sono realizzati con strati di carburo di silicio di alta qualità provenienti dalla Cina per garantire durata e affidabilità. I clienti possono scegliere dalla nostra selezione di dimensioni e specifiche dei wafer per soddisfare le loro esigenze specifiche.
I nostri wafer in carburo di silicio sono disponibili in diversi modelli e dimensioni, il modello è in carburo di silicio.
Offriamo una gamma di trattamenti superficiali, inclusa la lucidatura su un solo/due lati con rugosità superficiale ≤1,2 nm e planarità Lambda/10. Offriamo anche opzioni di alta/bassa resistività che possono essere personalizzate in base alle vostre esigenze. Il nostro EPD di ≤1E10/cm2 garantisce che i nostri wafer soddisfino i più elevati standard del settore.
Riguardiamo ogni dettaglio della confezione, pulizia, antistatico, trattamento antiurto. In base alla quantità e alla forma del prodotto, adotteremo un processo di imballaggio diverso! Quasi con cassette di wafer singole o cassette da 25 pezzi in una camera di pulizia di grado 100.