Grado conduttivo di prima qualità conduttivo lucidato doppio del wafer Sic del substrato del carburo di silicio 6H-N di 2 pollici

Breve descrizione:

Il substrato monocristallino in carburo di silicio (SiC) di tipo n 6H è un materiale semiconduttore essenziale ampiamente utilizzato in applicazioni elettroniche ad alta potenza, alta frequenza e alta temperatura. Rinomato per la sua struttura cristallina esagonale, il SiC 6H-N offre un ampio intervallo di banda e un'elevata conduttività termica, che lo rendono ideale per ambienti esigenti.
L'elevato campo elettrico di degradazione e la mobilità degli elettroni di questo materiale consentono lo sviluppo di dispositivi elettronici di potenza efficienti, come MOSFET e IGBT, che possono funzionare a tensioni e temperature più elevate rispetto a quelli realizzati con il silicio tradizionale. La sua eccellente conduttività termica garantisce un'efficace dissipazione del calore, fondamentale per mantenere le prestazioni e l'affidabilità nelle applicazioni ad alta potenza.
Nelle applicazioni a radiofrequenza (RF), le proprietà del 6H-N SiC supportano la creazione di dispositivi in ​​grado di funzionare a frequenze più elevate con una migliore efficienza. La sua stabilità chimica e la resistenza alle radiazioni lo rendono adatto anche all'uso in ambienti difficili, compresi i settori aerospaziale e della difesa.
Inoltre, i substrati SiC 6H-N sono parte integrante dei dispositivi optoelettronici, come i fotorilevatori ultravioletti, dove il loro ampio intervallo di banda consente un rilevamento efficiente della luce UV. La combinazione di queste proprietà rende il SiC 6H di tipo n un materiale versatile e indispensabile nel progresso delle moderne tecnologie elettroniche e optoelettroniche.


Dettagli del prodotto

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Di seguito sono riportate le caratteristiche del wafer in carburo di silicio:

· Nome del prodotto: substrato SiC
· Struttura esagonale: proprietà elettroniche uniche.
· Elevata mobilità elettronica: ~600 cm²/V·s.
· Stabilità chimica: resistente alla corrosione.
· Resistenza alle radiazioni: adatto ad ambienti difficili.
· Bassa concentrazione intrinseca di trasportatori: efficiente alle alte temperature.
· Durabilità: forti proprietà meccaniche.
· Funzionalità optoelettronica: rilevamento efficace della luce UV.

Il wafer in carburo di silicio ha diverse applicazioni

Applicazioni dei wafer SiC:
I substrati SiC (carburo di silicio) sono utilizzati in varie applicazioni ad alte prestazioni grazie alle loro proprietà uniche come elevata conduttività termica, elevata intensità del campo elettrico e ampio intervallo di banda. Ecco alcune applicazioni:

1. Elettronica di potenza:
·MOSFET ad alta tensione
·IGBT (transistor bipolari a gate isolato)
·Diodi Schottky
·Invertitori di potenza

2.Dispositivi ad alta frequenza:
·Amplificatori RF (radiofrequenza).
·Transistori per microonde
·Dispositivi ad onde millimetriche

3. Elettronica ad alta temperatura:
·Sensori e circuiti per ambienti difficili
·Elettronica aerospaziale
·Elettronica automobilistica (ad esempio, unità di controllo del motore)

4.Optoelettronica:
·Fotorivelatori ultravioletti (UV).
·Diodi emettitori di luce (LED)
·Diodi laser

5.Sistemi energetici rinnovabili:
·Inverter solari
·Convertitori per turbine eoliche
·Propulsori per veicoli elettrici

6.Industriale e difesa:
·Sistemi radar
·Comunicazioni satellitari
·Strumentazione del reattore nucleare

Personalizzazione del wafer SiC

Possiamo personalizzare la dimensione del substrato SiC per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Offriamo anche un wafer SiC 4H-Semi HPSI con una dimensione di 10x10 mm o 5x5 mm.
Il prezzo è determinato dal caso e i dettagli dell'imballaggio possono essere personalizzati in base alle tue preferenze.
Il tempo di consegna è entro 2-4 settimane. Accettiamo pagamenti tramite T/T.
La nostra fabbrica dispone di attrezzature di produzione avanzate e di un team tecnico, in grado di personalizzare varie specifiche, spessori e forme di wafer SiC in base alle esigenze specifiche dei clienti.

Diagramma dettagliato

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