Wafer in zaffiro da 12 pollici per la produzione di semiconduttori ad alto volume

Breve descrizione:

Il wafer in zaffiro da 12 pollici è progettato per soddisfare la crescente domanda di produzione di semiconduttori e optoelettronici di grandi dimensioni e ad alta produttività. Con la continua espansione delle architetture dei dispositivi e l'evoluzione delle linee di produzione verso formati di wafer più grandi, i substrati in zaffiro con diametri ultra-grandi offrono chiari vantaggi in termini di produttività, ottimizzazione della resa e controllo dei costi.


Caratteristiche

Diagramma dettagliato

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wafer di zaffiro

Introduzione del wafer di zaffiro da 12 pollici

Il wafer in zaffiro da 12 pollici è progettato per soddisfare la crescente domanda di produzione di semiconduttori e optoelettronici di grandi dimensioni e ad alta produttività. Con la continua espansione delle architetture dei dispositivi e l'evoluzione delle linee di produzione verso formati di wafer più grandi, i substrati in zaffiro con diametri ultra-grandi offrono chiari vantaggi in termini di produttività, ottimizzazione della resa e controllo dei costi.

Realizzati in Al₂O₃ monocristallino ad alta purezza, i nostri wafer in zaffiro da 12 pollici combinano eccellente resistenza meccanica, stabilità termica e qualità superficiale. Grazie alla crescita cristallina ottimizzata e alla lavorazione di precisione dei wafer, questi substrati offrono prestazioni affidabili per applicazioni avanzate di LED, GaN e semiconduttori speciali.

Caratteristiche del materiale

 

Lo zaffiro (ossido di alluminio monocristallino, Al₂O₃) è noto per le sue eccezionali proprietà fisiche e chimiche. I wafer in zaffiro da 12 pollici ereditano tutti i vantaggi del materiale zaffiro, offrendo al contempo una superficie utilizzabile molto più ampia.

Le principali caratteristiche del materiale includono:

  • Durezza e resistenza all'usura estremamente elevate

  • Eccellente stabilità termica e alto punto di fusione

  • Resistenza chimica superiore ad acidi e alcali

  • Elevata trasparenza ottica dalle lunghezze d'onda UV a IR

  • Eccellenti proprietà di isolamento elettrico

Queste caratteristiche rendono i wafer di zaffiro da 12 pollici adatti ad ambienti di lavorazione difficili e processi di produzione di semiconduttori ad alta temperatura.

Processo di produzione

La produzione di wafer di zaffiro da 12 pollici richiede tecnologie avanzate di crescita cristallina e di lavorazione ad altissima precisione. Il tipico processo di produzione comprende:

  1. Crescita di monocristalli
    I cristalli di zaffiro ad alta purezza vengono coltivati ​​utilizzando metodi avanzati come KY o altre tecnologie di crescita dei cristalli di grande diametro, garantendo un orientamento uniforme dei cristalli e un basso stress interno.

  2. Modellazione e taglio dei cristalli
    Il lingotto di zaffiro viene modellato con precisione e tagliato in wafer da 12 pollici utilizzando attrezzature di taglio ad alta precisione per ridurre al minimo i danni sottosuperficiali.

  3. Lappatura e lucidatura
    Per ottenere un'eccellente rugosità superficiale, planarità e uniformità di spessore, vengono applicati processi di lappatura multifase e lucidatura chimico-meccanica (CMP).

  4. Pulizia e ispezione
    Ogni wafer di zaffiro da 12 pollici viene sottoposto a un'accurata pulizia e a un'ispezione rigorosa, che comprende l'analisi della qualità della superficie, del TTV, della curvatura, della deformazione e dei difetti.

Applicazioni

I wafer di zaffiro da 12 pollici sono ampiamente utilizzati nelle tecnologie avanzate ed emergenti, tra cui:

  • Substrati LED ad alta potenza e alta luminosità

  • Dispositivi di potenza e dispositivi RF basati su GaN

  • Supporti per apparecchiature a semiconduttore e substrati isolanti

  • Finestre ottiche e componenti ottici di grandi dimensioni

  • Confezionamento avanzato di semiconduttori e supporti di processo speciali

Il diametro più ampio consente una maggiore produttività e una migliore efficienza dei costi nella produzione di massa.

Vantaggi dei wafer in zaffiro da 12 pollici

  • Area utilizzabile più ampia per una maggiore potenza del dispositivo per wafer

  • Miglioramento della coerenza e dell'uniformità del processo

  • Riduzione dei costi per dispositivo nella produzione ad alto volume

  • Ottima resistenza meccanica per la movimentazione di grandi dimensioni

  • Specifiche personalizzabili per diverse applicazioni

 

Opzioni di personalizzazione

Offriamo una personalizzazione flessibile per wafer in zaffiro da 12 pollici, tra cui:

  • Orientamento del cristallo (piano C, piano A, piano R, ecc.)

  • Tolleranza di spessore e diametro

  • Lucidatura mono o bifacciale

  • Profilo del bordo e progettazione dello smusso

  • Requisiti di rugosità e planarità della superficie

Parametro Specifica Note
Diametro del wafer 12 pollici (300 mm) Wafer standard di grande diametro
Materiale Zaffiro monocristallino (Al₂O₃) Elevata purezza, grado elettronico/ottico
Orientamento dei cristalli Piano C (0001), piano A (11-20), piano R (1-102) Orientamenti opzionali disponibili
Spessore 430–500 μm Spessore personalizzato disponibile su richiesta
Tolleranza di spessore ±10 μm Tolleranza stretta per dispositivi avanzati
Variazione dello spessore totale (TTV) ≤10 μm Garantisce un'elaborazione uniforme su tutta la cialda
Arco ≤50 μm Misurato su tutta l'ostia
Ordito ≤50 μm Misurato su tutta l'ostia
Finitura superficiale Lucidatura su un lato (SSP) / Lucidatura su due lati (DSP) Superficie di alta qualità ottica
Rugosità superficiale (Ra) ≤0,5 nm (lucidato) Levigatezza a livello atomico per la crescita epitassica
Profilo del bordo Smusso / Bordo arrotondato Per evitare scheggiature durante la manipolazione
Precisione di orientamento ±0,5° Assicura una corretta crescita dello strato epitassiale
Densità dei difetti <10 cm⁻² Misurato mediante ispezione ottica
Planarità ≤2 μm / 100 mm Assicura una litografia uniforme e una crescita epitassiale
Pulizia Classe 100 – Classe 1000 Compatibile con la camera bianca
Trasmissione ottica >85% (UV–IR) Dipende dalla lunghezza d'onda e dallo spessore

 

FAQ sul wafer in zaffiro da 12 pollici

D1: Qual è lo spessore standard di un wafer di zaffiro da 12 pollici?
R: Lo spessore standard varia da 430 μm a 500 μm. Spessori personalizzati possono essere prodotti anche in base alle esigenze del cliente.

 

D2: Quali orientamenti dei cristalli sono disponibili per i wafer di zaffiro da 12 pollici?
R: Offriamo gli orientamenti del piano C (0001), del piano A (11-20) e del piano R (1-102). Altri orientamenti possono essere personalizzati in base ai requisiti specifici del dispositivo.

 

D3: Qual è la variazione di spessore totale (TTV) del wafer?
R: I nostri wafer in zaffiro da 12 pollici hanno in genere un TTV ≤10 μm, garantendo uniformità su tutta la superficie del wafer per una fabbricazione di dispositivi di alta qualità.

Chi siamo

XKH è specializzata nello sviluppo, nella produzione e nella vendita di vetri ottici speciali e nuovi materiali cristallini ad alta tecnologia. I nostri prodotti sono destinati all'elettronica ottica, all'elettronica di consumo e al settore militare. Offriamo componenti ottici in zaffiro, coperture per lenti di telefoni cellulari, wafer in ceramica, LT, carburo di silicio (SIC), quarzo e cristalli semiconduttori. Grazie a competenze specialistiche e attrezzature all'avanguardia, eccelliamo nella lavorazione di prodotti non standard, con l'obiettivo di diventare un'azienda leader nel settore dei materiali optoelettronici ad alta tecnologia.

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