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Cambiate i materiali di dissipazione del calore! La domanda di substrati in carburo di silicio è destinata a esplodere!
Indice 1. Collo di bottiglia nella dissipazione del calore nei chip AI e innovazione dei materiali in carburo di silicio 2. Caratteristiche e vantaggi tecnici dei substrati in carburo di silicio 3. Piani strategici e sviluppo collaborativo di NVIDIA e TSMC 4. Percorso di implementazione e principali aspetti tecnici...Per saperne di più -
Importante svolta nella tecnologia di sollevamento laser di wafer in carburo di silicio da 12 pollici
Indice 1. Importante svolta nella tecnologia di sollevamento laser di wafer in carburo di silicio da 12 pollici 2. Molteplici significati della svolta tecnologica per lo sviluppo del settore SiC 3. Prospettive future: la collaborazione completa di XKH tra sviluppo e settore Di recente,...Per saperne di più -
Titolo: Cos'è il FOUP nella produzione di chip?
Indice 1. Panoramica e funzioni principali del FOUP 2. Struttura e caratteristiche di progettazione del FOUP 3. Classificazione e linee guida applicative del FOUP 4. Operazioni e importanza del FOUP nella produzione di semiconduttori 5. Sfide tecniche e tendenze di sviluppo future 6. Clienti di XKH...Per saperne di più -
Tecnologia di pulizia dei wafer nella produzione di semiconduttori
Tecnologia di pulizia dei wafer nella produzione di semiconduttori La pulizia dei wafer è una fase critica dell'intero processo di produzione dei semiconduttori e uno dei fattori chiave che influenzano direttamente le prestazioni del dispositivo e la resa produttiva. Durante la fabbricazione dei chip, anche la minima contaminazione...Per saperne di più -
Tecnologie di pulizia dei wafer e documentazione tecnica
Indice 1. Obiettivi principali e importanza della pulizia dei wafer 2. Valutazione della contaminazione e tecniche analitiche avanzate 3. Metodi di pulizia avanzati e principi tecnici 4. Fondamenti di implementazione tecnica e controllo del processo 5. Tendenze future e direzioni innovative 6. X...Per saperne di più -
Cristalli singoli appena coltivati
I monocristalli sono rari in natura e, anche quando si verificano, sono solitamente molto piccoli, tipicamente nell'ordine dei millimetri (mm), e difficili da ottenere. Diamanti, smeraldi, agate, ecc. segnalati, generalmente non entrano in circolazione sul mercato, figuriamoci in applicazioni industriali; la maggior parte viene esposta...Per saperne di più -
Il più grande acquirente di allumina ad alta purezza: quanto ne sai sullo zaffiro?
I cristalli di zaffiro vengono prodotti a partire da polvere di allumina ad alta purezza con una purezza >99,995%, il che li rende il materiale più richiesto per l'allumina ad alta purezza. Presentano elevata resistenza, elevata durezza e proprietà chimiche stabili, che consentono loro di operare in ambienti difficili come le alte temperature...Per saperne di più -
Cosa significano TTV, BOW, WARP e TIR nei wafer?
Quando si esaminano wafer di silicio semiconduttore o substrati realizzati in altri materiali, spesso ci imbattiamo in indicatori tecnici come: TTV, BOW, WARP e, possibilmente, TIR, STIR, LTV, tra gli altri. Quali parametri rappresentano? TTV — Variazione di Spessore Totale BOW — Arco WARP — Deformazione TIR — ...Per saperne di più -
Materie prime chiave per la produzione di semiconduttori: tipi di substrati per wafer
Substrati di wafer come materiali chiave nei dispositivi a semiconduttore I substrati di wafer sono i supporti fisici dei dispositivi a semiconduttore e le loro proprietà determinano direttamente le prestazioni, i costi e i campi di applicazione del dispositivo. Di seguito sono riportati i principali tipi di substrati di wafer insieme ai loro vantaggi...Per saperne di più -
Apparecchiature per il taglio laser ad alta precisione per wafer SiC da 8 pollici: la tecnologia fondamentale per la futura elaborazione dei wafer SiC
Il carburo di silicio (SiC) non è solo una tecnologia fondamentale per la difesa nazionale, ma anche un materiale fondamentale per l'industria automobilistica ed energetica globale. Come primo passaggio fondamentale nella lavorazione del monocristallo di SiC, il taglio del wafer determina direttamente la qualità delle successive operazioni di assottigliamento e lucidatura. Tr...Per saperne di più -
Vetri AR con guida d'onda in carburo di silicio di grado ottico: preparazione di substrati semi-isolanti ad alta purezza
Sullo sfondo della rivoluzione dell'intelligenza artificiale, gli occhiali AR stanno gradualmente entrando nella coscienza pubblica. In quanto paradigma che fonde perfettamente il mondo virtuale e quello reale, gli occhiali AR si differenziano dai dispositivi VR consentendo agli utenti di percepire simultaneamente sia le immagini proiettate digitalmente che la luce ambientale...Per saperne di più -
Crescita eteroepitassiale di 3C-SiC su substrati di silicio con diversi orientamenti
1. Introduzione Nonostante decenni di ricerca, la crescita di 3C-SiC eteroepitassiale su substrati di silicio non ha ancora raggiunto una qualità cristallina sufficiente per applicazioni elettroniche industriali. La crescita viene in genere eseguita su substrati di Si(100) o Si(111), ognuno dei quali presenta sfide distinte: antifase...Per saperne di più